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蝕刻網(wǎng)加工過(guò)程中的側(cè)蝕及側(cè)蝕系數(shù)
(1)蝕刻網(wǎng)側(cè)蝕的形成過(guò)程
蝕刻開(kāi)始時(shí),金屬板表面被圖形所保護(hù)。其余金屬面均和蝕刻液接觸。此時(shí)蝕刻垂直向深度進(jìn)行。當(dāng)金屬表面被蝕刻到一定深度后,裸露的兩側(cè)出現(xiàn)新的金屬面,這時(shí)蝕刻液除向垂直方向還向兩側(cè)進(jìn)行蝕刻。隨著蝕刻深度的增加,兩側(cè)金屬面的蝕刻的面積也在加大。開(kāi)始的部分被蝕刻的時(shí)間長(zhǎng),向兩側(cè)蝕刻的深度也大,形成嚴(yán)重側(cè)蝕,底部蝕刻時(shí)間較短,側(cè)蝕相對(duì)輕微。
(2)側(cè)蝕對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量的影響
側(cè)蝕能使凸面的圖形(泛指陽(yáng)圖)線條或網(wǎng)點(diǎn)變細(xì)變小,反之使凹圖的線條或網(wǎng)點(diǎn)變粗變大.使圖形變形或尺寸超差,嚴(yán)重時(shí)使產(chǎn)品報(bào)廢,是蝕刻中的大敵。近幾年.隨著科技的發(fā)展,科技工作者進(jìn)行了大量的實(shí)驗(yàn),找出了一些解決方法。
(3)減小側(cè)蝕的方法
蝕刻過(guò)程中產(chǎn)生側(cè)蝕是不可避免的.所以如何將側(cè)蝕降至最小值成為各生產(chǎn)廠家的首要目標(biāo),其方法主要有以下幾種:
A.選擇高效率的蝕刻液.最好能使蝕刻液連續(xù)使用、再生.永遠(yuǎn)處于最佳的活躍狀態(tài)。
B.制定或控制好適于自身產(chǎn)品的蝕刻液的溫度。
C.選擇理想的蝕刻方法.如噴淋式較好.其它方式較差,靜止蝕刻側(cè)蝕最大。使用噴淋蝕刻時(shí),上噴和下噴差別較大,應(yīng)選擇下噴。這是因?yàn)椋绻x擇上噴.即噴頭向下.蝕刻應(yīng)噴至板面,蝕刻液停留時(shí)間較長(zhǎng).在垂直蝕刻的同時(shí)向兩側(cè)蝕刻。而下噴當(dāng)蝕刻液噴向板面時(shí)即刻落下,溶液交換的速度快.永遠(yuǎn)有新溶液噴向板面.減少了側(cè)蝕的機(jī)會(huì),側(cè)蝕較小。
D.嚴(yán)格控制蝕刻時(shí)間。方法是先做首件,選擇出最佳的蝕刻時(shí)間,一旦達(dá)到理想深度即刻取出用水沖洗(若有局部蝕刻不掉.取出清洗后做局部處理)。以后的產(chǎn)品按此蝕刻時(shí)間。
E.適量加入高分子成膜物質(zhì)作保護(hù)劑.這種物質(zhì)要能溶解于水,與金屬要有特定的親和力。蝕刻時(shí)可以粘附于金屬的側(cè)壁上。
蝕刻開(kāi)始時(shí),金屬板表面被圖形所保護(hù)。其余金屬面均和蝕刻液接觸。此時(shí)蝕刻垂直向深度進(jìn)行。當(dāng)金屬表面被蝕刻到一定深度后,裸露的兩側(cè)出現(xiàn)新的金屬面,這時(shí)蝕刻液除向垂直方向還向兩側(cè)進(jìn)行蝕刻。隨著蝕刻深度的增加,兩側(cè)金屬面的蝕刻的面積也在加大。開(kāi)始的部分被蝕刻的時(shí)間長(zhǎng),向兩側(cè)蝕刻的深度也大,形成嚴(yán)重側(cè)蝕,底部蝕刻時(shí)間較短,側(cè)蝕相對(duì)輕微。
(2)側(cè)蝕對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量的影響
側(cè)蝕能使凸面的圖形(泛指陽(yáng)圖)線條或網(wǎng)點(diǎn)變細(xì)變小,反之使凹圖的線條或網(wǎng)點(diǎn)變粗變大.使圖形變形或尺寸超差,嚴(yán)重時(shí)使產(chǎn)品報(bào)廢,是蝕刻中的大敵。近幾年.隨著科技的發(fā)展,科技工作者進(jìn)行了大量的實(shí)驗(yàn),找出了一些解決方法。
(3)減小側(cè)蝕的方法
蝕刻過(guò)程中產(chǎn)生側(cè)蝕是不可避免的.所以如何將側(cè)蝕降至最小值成為各生產(chǎn)廠家的首要目標(biāo),其方法主要有以下幾種:
A.選擇高效率的蝕刻液.最好能使蝕刻液連續(xù)使用、再生.永遠(yuǎn)處于最佳的活躍狀態(tài)。
B.制定或控制好適于自身產(chǎn)品的蝕刻液的溫度。
C.選擇理想的蝕刻方法.如噴淋式較好.其它方式較差,靜止蝕刻側(cè)蝕最大。使用噴淋蝕刻時(shí),上噴和下噴差別較大,應(yīng)選擇下噴。這是因?yàn)椋绻x擇上噴.即噴頭向下.蝕刻應(yīng)噴至板面,蝕刻液停留時(shí)間較長(zhǎng).在垂直蝕刻的同時(shí)向兩側(cè)蝕刻。而下噴當(dāng)蝕刻液噴向板面時(shí)即刻落下,溶液交換的速度快.永遠(yuǎn)有新溶液噴向板面.減少了側(cè)蝕的機(jī)會(huì),側(cè)蝕較小。
D.嚴(yán)格控制蝕刻時(shí)間。方法是先做首件,選擇出最佳的蝕刻時(shí)間,一旦達(dá)到理想深度即刻取出用水沖洗(若有局部蝕刻不掉.取出清洗后做局部處理)。以后的產(chǎn)品按此蝕刻時(shí)間。
E.適量加入高分子成膜物質(zhì)作保護(hù)劑.這種物質(zhì)要能溶解于水,與金屬要有特定的親和力。蝕刻時(shí)可以粘附于金屬的側(cè)壁上。
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